多孔質アルミナマスクを用いたシリコン基板上での半導体ナノロッドアレイの成長制御
KAKEN 科学研究費助成事業データベース で見る| 研究課題番号 | KAKENHI-PROJECT-18K04705 |
|---|---|
| 研究種目 | 基盤研究(C) |
| 研究分野 | |
| 研究機関 | 愛媛大学 |
| 代表研究者 | 高橋 亮治 |
| 研究分担者 | 佐藤 文哉 |
| 研究期間 開始年月日 | 2018/4/1 |
| 研究期間 終了年度 | 2020 |
| 研究ステータス | 完了 (2020/4/1) |
| 配分額（合計） | 4,420,000 (直接経費 :3,400,000、間接経費 :1,020,000) |
| 配分額（履歴） |
2020年度：1,040,000 (直接経費 :800,000、間接経費 :240,000) 2019年度：1,040,000 (直接経費 :800,000、間接経費 :240,000) 2018年度：2,340,000 (直接経費 :1,800,000、間接経費 :540,000) |
| キーワード | 多孔質膜 半導体のパターン成長 シリカ 相分離 アルミナ 陽極酸化 シリコン パターニング カーボンナノチューブ 半導体 半導体ナノロッドアレイ 酸化物マスク シリコン基板 表面修飾 カーボンナノファイバーアレイ |