ウェハスケール表面構造制御を用いた単結晶グラフェン基板創製
KAKEN 科学研究費助成事業データベース で見る| 研究課題番号 | KAKENHI-PROJECT-21246006 |
|---|---|
| 研究種目 | 基盤研究(A) |
| 研究分野 | 理工系 工学 応用物理学・工学基礎 応用物性・結晶工学 |
| 研究機関 | 日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所 |
| 代表研究者 | 日比野 浩樹 |
| 研究分担者 | 永瀬 雅夫 |
| 研究分担者 | 影島 博之 |
| 研究分担者 | 蟹澤 聖 |
| 研究分担者 | 山口 徹 |
| 研究分担者 | 田中 悟 |
| 研究分担者 | 水野 清義 |
| 研究期間 開始年月日 | 2009/4/1 |
| 研究期間 終了年度 | 2011 |
| 研究ステータス | 完了 (2011/4/1) |
| 配分額（合計） | 46,020,000 (直接経費 :35,400,000、間接経費 :10,620,000) |
| 配分額（履歴） |
2011年度：4,810,000 (直接経費 :3,700,000、間接経費 :1,110,000) 2010年度：4,420,000 (直接経費 :3,400,000、間接経費 :1,020,000) 2009年度：36,790,000 (直接経費 :28,300,000、間接経費 :8,490,000) |
| キーワード | ナノ構造物性 グラフェン シリコンカーバイド 電気伝導特性 低エネルギー電子顕微鏡 量子ホール効果 キャリア移動度 インターカレーション ホール素子 バンドギャップ 成長機構 トランジスタ |