窒素含有グラフェンシート構造体の開発
KAKEN 科学研究費助成事業データベース で見る| 研究課題番号 | KAKENHI-PROJECT-20850030 |
|---|---|
| 研究種目 | 若手研究(スタートアップ) |
| 研究分野 | 理工系 化学 基礎化学 有機化学 |
| 研究機関 | 首都大学東京 |
| 代表研究者 | 高瀬 雅祥 |
| 研究期間 開始年月日 | 2008/4/1 |
| 研究期間 終了年度 | 2009 |
| 研究ステータス | 完了 (2009/4/1) |
| 配分額(合計) | 3,276,000 (直接経費 :2,520,000、間接経費 :756,000) |
| 配分額(履歴) |
2009年度:1,560,000 (直接経費 :1,200,000、間接経費 :360,000) 2008年度:1,716,000 (直接経費 :1,320,000、間接経費 :396,000) |
| キーワード | グラフェン 含窒素グラフェン π電子共役系 テトラチアフルバレン 超分子集合体 |
