CuIを原料とするCuの選択形成
KAKEN 科学研究費助成事業データベース で見る| 研究課題番号 | KAKENHI-PROJECT-17K06339 |
|---|---|
| 研究種目 | 基盤研究(C) |
| 研究分野 | 理工系 工学 電気電子工学 電子・電気材料工学 |
| 研究機関 | 茨城大学 |
| 代表研究者 | 山内 智 |
| 研究分担者 | 城塚 達也 |
| 研究期間 開始年月日 | 2017/4/1 |
| 研究期間 終了年度 | 2019 |
| 研究ステータス | 完了 (2019/4/1) |
| 配分額（合計） | 4,680,000 (直接経費 :3,600,000、間接経費 :1,080,000) |
| 配分額（履歴） |
2019年度：130,000 (直接経費 :100,000、間接経費 :30,000) 2018年度：1,690,000 (直接経費 :1,300,000、間接経費 :390,000) 2017年度：2,860,000 (直接経費 :2,200,000、間接経費 :660,000) |
| キーワード | 銅の化学気相堆積 銅薄膜の選択形成 ヨウ化銅（I)原料 第一原理計算 銅薄膜の選択生成 ヨウ化銅原料 銅配線 電子デバイス・機器 電子・電気材料 デバイス設計・製造プロセス |