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ナノサイズ薄膜の強度支配因子は何か?

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研究課題番号 KAKENHI-PROJECT-17560071
研究種目 基盤研究(C)
研究分野 理工系
工学
機械工学
機械材料・材料力学
研究機関 徳島大学
代表研究者 英 崇夫
研究分担者 日下 一也
研究期間 開始年月日 2005/4/1
研究期間 終了年度 2006
研究ステータス 完了 (2006/4/1)
配分額(合計) 3,500,000 (直接経費 :3,500,000)
配分額(履歴) 2006年度:900,000 (直接経費 :900,000)
2005年度:2,600,000 (直接経費 :2,600,000)
キーワード 薄膜
ナノサイズ
Al膜
Cu膜
残留応力
熱応力
熱サイクル試験
ストレスマイグレーション
Cu薄膜
Al薄膜
保護膜
Thin film
Nano-size
Al film
Cu film
Residual stress
Thermal stress
Thermal cycle test

研究成果

[雑誌論文] Thermal stress behavior in nano-size thin aluminum films

T.Hanabusa, K.Kusaka, S.Shingubara, O.Sakata 2006

[雑誌論文] Thermal stress behavior in nano-size thin aluminum films

T.Hanabusa, K.Kusaka, S.Shingubara, O.Sakata 2006

[雑誌論文] Thermal stress behavior in nano-size thin aluminum films

T.Hanabusa, K.Kusaka, S.Shingubara, O.Sakata 2006

[雑誌論文] Residual stress measurement in sputtered copper thin films by synchrotron radiation and ordinary X-rays

M.Hataya, T.Hanabusa, K.Kusaka, K.Tominaga, T.Matsue, O.Sakata 2005

[雑誌論文] Residual stress measurement in sputtered copper thin films by synchrotron radiation and ordinary X-rays

M.Hataya, T.Hanabusa, K.Kusaka, K.Tominaga, T.Matsue, O.Sakata 2005

[雑誌論文] In-situ observation of thermal stress in nano-size thin aluminum films

T.Hanabusa, K.Kusaka, S.Shingubara, O.Sakata 2005

[雑誌論文] In-situ observation of thermal stress in nano-size thin aluminum films

T.Hanabusa, K.Kusaka, S.Shingubara, O.Sakata 2005