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ドーパントを有しないアモルファス透明導電性酸化物薄膜の高キャリア移動度化

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研究課題番号 KAKENHI-PROJECT-14750555
研究種目 若手研究(B)
研究分野 工学
材料工学
無機材料・物性
研究機関 徳島大学
代表研究者 森賀 俊広
研究期間 開始年月日 2002/4/1
研究期間 終了年度 2003
研究ステータス 完了 (2003/4/1)
配分額(合計) 3,500,000 (直接経費 :3,500,000)
配分額(履歴) 2003年度:900,000 (直接経費 :900,000)
2002年度:2,600,000 (直接経費 :2,600,000)
キーワード 透明誘電性酸化物
対向ターゲット式DCスパッタリング
酸化亜鉛
酸化インジウム
酸化スズ
アモルファス
アニール処理
ノンドープ半導体
対向ターゲット式
DCスパッタリング
透明導電性酸化物
酸化亜鉛-酸化インジウム系
光学バンドギャップ
表面の平滑化