表面イオニクス触媒の創製と低温電場アシスト脱水素触媒反応への応用
KAKEN 科学研究費助成事業データベース で見る| 研究課題番号 | KAKENHI-PROJECT-24K08158 |
|---|---|
| 研究種目 | 基盤研究(C) |
| 研究分野 | |
| 研究機関 | 高知大学 |
| 代表研究者 | 小河 脩平 |
| 研究期間 開始年月日 | 2024/4/1 |
| 研究期間 終了年度 | 2026 |
| 研究ステータス | 交付 (2024/4/1) |
| 配分額（合計） | 4,680,000 (直接経費 :3,600,000、間接経費 :1,080,000) |
| 配分額（履歴） |
2026年度：1,040,000 (直接経費 :800,000、間接経費 :240,000) 2025年度：1,040,000 (直接経費 :800,000、間接経費 :240,000) 2024年度：2,600,000 (直接経費 :2,000,000、間接経費 :600,000) |
| キーワード | 資源・エネルギー有効利用技術 脱水素反応 担持金属触媒 低温電場触媒反応 低級オレフィン製造 |