ヘリウムイオン顕微鏡の二次電子信号評価シミュレーション

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代表研究者	大宅薫
研究課題番号	KAKENHI-PROJECT-24560029
研究種目	基盤研究(C)
研究分野	理工系工学応用物理学・工学基礎薄膜・表面界面物性
研究機関	徳島大学
研究分担者	山中卓也
研究期間開始年月日	2012/4/1
研究期間終了年度	2014
研究ステータス	完了 (2014/4/1)
配分額（合計）	5,200,000 (直接経費 :4,000,000、間接経費 :1,200,000)
配分額（履歴）	2014年度：1,300,000 (直接経費 :1,000,000、間接経費 :300,000) 2013年度：1,300,000 (直接経費 :1,000,000、間接経費 :300,000) 2012年度：2,600,000 (直接経費 :2,000,000、間接経費 :600,000)
キーワード	イオン顕微鏡二次電子放出ヘリウムイオンシミュレーション

研究成果

[学会発表] 電子・イオン照射による固体の二次電子放出

大宅　薫 2015

[学会発表] イオンビームによる照射ダメージのダイナミックモンテカルロシミュレーション

大宅　薫 2015

[雑誌論文] Simulation of secondary electron emission from a stepped surface in scanning ion microscopes

Ohya K 2014

[学会発表] シミュレーションによるイオン顕微鏡の二次電子像コントラストの理解

大宅　薫 2014

[雑誌論文] Simulation of insulating-layer charging on a conductive substrate irradiated by ion and electron beams

Kaoru Ohya 2014

[学会発表] Modeling Positive and Negative Charging of an Insulating Layer under KeV Electron Irradiation

Ohya K, Nagai T 2013

[学会発表] ＫｅＶ電子ビーム照射による絶縁膜帯電のシミュレーション

大宅　薫，永井　健仁 2013

[学会発表] Modeling secondary electron emission in scanning ion microscope

Ohya K 2013

[学会発表] Modeling Secondary Electron Emission from Line Edge Patterns in Scanning Ion Microscopes

Ohya K, Yamanaka K 2013

[雑誌論文] Modeling Secondary Electron Emission from Nanostructured Materials in Helium Ion Microscope

Ohya K, et al 2013

[学会発表] Modeling secondary electron emission in scanning He ion microscope: comparison with scanning Ga ion and electron microscopes

Ohya K, Yamanaka K 2013

[学会発表] 走査イオン顕微鏡によるラインパターン計測のシミュレーション

山中　卓也，大宅　薫 2013

[学会発表] Modeling Ion Induced Secondary Electron Emission in Scanning Ion Microscopes

Ohya K, Yamanaka K 2013

[学会発表] Modeling ion-induced secondary electron emission in scanning ion microscopes

Ohya K 2013

[学会発表] Modeling Secondary Electron emission from Nanostructured Materials in Helium Ion Microscope

Ohya K 2012

[学会発表] Damage simulation of EUV-multilayered mask under focused ion beam irradiation

Kaoru Ohya 0

[学会発表] ヘリウムイオン顕微鏡の二次電子信号評価シミュレーション

大宅　薫

[学会発表] Helium ion beam charging of an oxide layer on a silicon substrate: a comparison between observed and Monte Carlo-simulated results

Kaoru Ohya, Takuya Yamanaka, Emile van Veldhoven, Paul F. A. Alkemade, Diederik J. Maas 0

[学会発表] 集束イオンビームによる多層膜の照射ダメージのシミュレーション

大宅　薫 0

[学会発表] Modelling and observastion of a trench pattern on a silicon substrate in helium ion microscope

Takuya Yamanaka, Kaoru Ohya, Emile van Veldhoven, Paul F. A. Alkemade, Diederik J. Maas 0

[学会発表] イオンビーム照射による固体表面の二次電子放出と帯電のシミュレーション

大宅薫

[学会発表] Charging Simulation of Insulating Layers on a Conducting Substrate Irradiated by Ion and Electron Beams

Kaoru Ohya 0

[学会発表] Simulation Study of Crystalline Orientation Effect in Scanning Ion Microscopes

Kaoru Ohya 0