イオン液体ゲート電界印加グラフェンのバンドギャップ生成制御とナノデバイスの開発
KAKEN 科学研究費助成事業データベース で見る研究課題番号 | KAKENHI-PROJECT-24310105 |
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研究種目 | 基盤研究(B) |
研究分野 | 総合・新領域系 複合新領域 ナノ・マイクロ科学 マイクロ・ナノデバイス |
研究機関 | 東京農工大学 大阪大学 |
代表研究者 | 前橋 兼三 |
研究分担者 | 大野 恭秀 |
研究期間 開始年月日 | 2012/4/1 |
研究期間 終了年度 | 2015 |
研究ステータス | 完了 (2015/4/1) |
配分額(合計) | 16,120,000 (直接経費 :12,400,000、間接経費 :3,720,000) |
配分額(履歴) |
2014年度:3,380,000 (直接経費 :2,600,000、間接経費 :780,000) 2013年度:4,550,000 (直接経費 :3,500,000、間接経費 :1,050,000) 2012年度:8,190,000 (直接経費 :6,300,000、間接経費 :1,890,000) |
キーワード | グラフェン 電界効果トランジスタ イオン液体 ラマン散乱分光 直接成長 ラマン散乱 バンドギャップ 電界印加 |