大気圧グロー放電プラズマを利用した酸化亜鉛薄膜の高速大面積作製技術開発
KAKEN 科学研究費助成事業データベース で見る研究課題番号 | KAKENHI-PROJECT-22560113 |
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研究種目 | 基盤研究(C) |
研究分野 | 理工系 工学 機械工学 生産工学・加工学 |
研究機関 | 香川大学 |
代表研究者 | 須崎 嘉文 |
研究期間 開始年月日 | 2010/4/1 |
研究期間 終了年度 | 2012 |
研究ステータス | 完了 (2012/4/1) |
配分額(合計) | 4,290,000 (直接経費 :3,300,000、間接経費 :990,000) |
配分額(履歴) |
2012年度:1,430,000 (直接経費 :1,100,000、間接経費 :330,000) 2011年度:1,170,000 (直接経費 :900,000、間接経費 :270,000) 2010年度:1,690,000 (直接経費 :1,300,000、間接経費 :390,000) |
キーワード | ナノ・マイクロ加工 大気圧低温プラズマ 成膜方法 酸化亜鉛 大気圧プラズマ 誘電体バリア放電 グロー放電 透明導電性薄膜 大気圧CVD 有機錯体材料 ガス流れ 大面積成膜 |