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ジェットエンジン型超高温MOVPEによる低転位AlN成長

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研究課題番号 KAKENHI-PROJECT-20K21006
研究種目 挑戦的研究(萌芽)
研究分野
研究機関 徳島大学
代表研究者 永松 謙太郎
研究期間 開始年月日 2020/4/1
研究期間 終了年度 2022
研究ステータス 完了 (2022/4/1)
配分額(合計) 6,500,000 (直接経費 :5,000,000、間接経費 :1,500,000)
配分額(履歴) 2022年度:910,000 (直接経費 :700,000、間接経費 :210,000)
2021年度:1,820,000 (直接経費 :1,400,000、間接経費 :420,000)
2020年度:3,770,000 (直接経費 :2,900,000、間接経費 :870,000)
キーワード 窒化物半導体
高温結晶成長
窒化アルミニウム
深紫外LED

研究成果

[学会発表] High-temperature growth in AlN by MOVPE

Kentaro Nagamatsu 2023

[学会発表] 超高温MOVPEを用いたAlGaN成長

富田 敦之, 宮川 拓己, 平山 秀樹, 髙島 祐介, 直井 美貴, 永松 謙太郎 2023

[学会発表] 低オフ角サファイア基板を用いた高温AlN成長におけるV/III比依存性

富田 敦之, 津田 翔太, 宮川 拓己, 平山 秀樹, 髙島 祐介, 直井 美貴, 永松 謙太郎 2022

[学会発表] 高温有機金属気相成長法におけるAlNの特異的なステップバンチング

宮川 拓己, 津田 翔太, 富田 敦之, 平山 秀樹, 髙島 祐介, 直井 美貴, 永松 謙太郎 2022

[学会発表] Threshold temperature in annihilation radius of dislocation for AlN

Shota Tusuda, Takumi Miyagawa, Reiya Aono, Atsushi Tomita, Hideki Hirayama, Yuusuke Takashima, Yoshiki Naoi, and Kentaro Nagamatsu 2022

[学会発表] The reduction of adduct formation during high-temperature growth in AlN by jet gas stream metalorganic vapor phase epitaxy

Kentaro Nagamatsu, Shota Tsuda, Takumi Miyagawa, Reiya Aono, Hideki Hirayama, Yuusuke Takashima, and Yoshiki Naoi 2022

[学会発表] The improvement of crystal orientation in AlN with controlled inversion domain

Shota Tusuda, Takumi Miyagawa, Reiya Aono, Atsushi Tomita, Hideki Hirayama, Yuusuke Takashima, Yoshiki Naoi, and Kentaro Nagamatsu 2022

[学会発表] 高温有機金属気相成長法におけるAlNの特異的なステップバンチング

宮川 拓己, 津田 翔太, 富田 敦之, 平山 秀樹, 髙島 祐介, 直井 美貴, 永松 謙太郎 2022

[学会発表] The high-temperature growth in AlN with the unaffected parasitic reaction by Jet gas stream MOVPE

Kentaro Nagamatsu, Takumi Miyagawa, Atsushi Tomita, Hideki Hirayama, Yuusuke Takashima and Yoshiki Naoi 2022

[学会発表] 有機金属気相成長法による高温AlN成長

永松 謙太郎 2022

[学会発表] The improvement of crystal orientation in AlN with controlled inversion domain

Shota Tsuda, Takumi Miyagawa, Reiya Aono, Atsushi Tomita, Hideki Hirayama, Yuusuke Takashima, Yoshiki Naoi and Kentaro Nagamatsu 2022

[学会発表] 低オフ角サファイヤ基板を用いた高温AIN成長におけるV/Ⅲ比依存性

富田 敦之, 津田 翔太, 宮川 拓己, 平山 秀樹, 髙島 祐介, 直井 美貴, 永松 謙太郎 2022

[学会発表] Virus inactivation using ultraviolet LEDs

Kentaro Nagamatsu 2022

[雑誌論文] Reduction of parasitic reaction in high-temperature AlN growth by jet stream gas flow metalorganic vapor phase epitaxy

Nagamatsu Kentaro、Tsuda Shota、Miyagawa Takumi、Aono Reiya、Hirayama Hideki、Takashima Yuusuke、Naoi Yoshiki 2022

[学会発表] Threshold temperature in annihilation radius of dislocation for AlN

Shota Tsuda, Takumi Miyagawa, Reiya Aono, Atsushi Tomita, Hideki Hirayama, Yuusuke Takashima, Yoshiki Naoi and Kentaro Nagamatsu 2022

[学会発表] Lateral epitaxial overgrowth by mass transport in AlN with the temperature of 1700

Takumi Miyagawa, Atsushi Tomita, Hideki Hirayama, Yuusuke Takashima, Yoshiki Naoi and Kentaro Nagamatsu 2022

[学会発表] Dependence of c-plane sapphire misorientation angle in high temperature AlN growth and specific step bunching at large angle

Takumi Miyagawa, Atsushi Tomita, Shota Tsuda, Hideki Hirayama, Yuusuke Takashima, Yoshiki Naoi and Kentaro Nagamatsu 2022

[学会発表] 低温AlNバッファ層上高温AlN初期成長

青野零弥、津田翔太、揚田侑哉、宮川学、平山秀樹、髙島祐介、直井美貴、永松謙太郎 2021

[学会発表] AlNテンプレート上高温AlN結晶成長

津田翔太、青野零弥、揚田侑哉、宮川学、平山秀樹、髙島祐介、直井美貴、永松謙太郎 2021

[学会発表] 高温有機金属気相成長法におけるAlN成長の気相反応抑制

永松謙太郎、津田翔太、青野零弥、宮川学、揚田侑哉、平山秀樹、髙島祐介、直井美貴 2021

[学会発表] AlNの高流速成長における成長メカニズム

宮川学、津田翔太、青野零弥、揚田侑哉、平山秀樹、髙島祐介、直井美貴、永松謙太郎 2021

[学会発表] 気相反応を制御したMOVPEにおけるAlNのV/III比依存性

富田 敦之, 津田 翔太, 宮川 拓己, 髙島 祐介, 直井 美貴, 平山 秀樹, 永松 謙太郎 2021

[学会発表] インバージョンドメインの抑制による高品質AlN成長手法の確立

津田 翔太, 宮川 拓己, 富田 敦之, 平山 秀樹, 髙島 祐介, 直井 美貴, 永松 謙太郎 2021