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ボロンドープした半導体ナノダイヤモンドの開発とグルコースセンサーへの応用

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研究課題番号 KAKENHI-PROJECT-20360056
研究種目 基盤研究(B)
研究分野 理工系
工学
機械工学
機械材料・材料力学
研究機関 徳島大学
代表研究者 村上 理一
連携研究者 米倉 大介
連携研究者 コインカー パンカジ
研究期間 開始年月日 2008/4/1
研究期間 終了年度 2010
研究ステータス 完了 (2010/4/1)
配分額(合計) 19,630,000 (直接経費 :15,100,000、間接経費 :4,530,000)
配分額(履歴) 2010年度:2,210,000 (直接経費 :1,700,000、間接経費 :510,000)
2009年度:7,280,000 (直接経費 :5,600,000、間接経費 :1,680,000)
2008年度:10,140,000 (直接経費 :7,800,000、間接経費 :2,340,000)
キーワード 材料加工・処理
導電性ダイヤモンド
グルコースセンサー
表面・界面物性
半導体ダイヤモンド
酵素反応

研究成果

[雑誌論文] Enhanced field emission characteristics of boron doped diamond films grown by microwave plasma assisted chemical vapor deposition

Pankaj M.Koinkar, Sandip S.Patil, Tae-Gyu Kim, D.Yonekura, Mahendra A.More, Dilip S.Joag, Ri-ichi Murakami 2011

[学会発表] MPCVD法により成膜した導電性ダイヤモンド薄膜の表面化学修飾の評価

石川洋三, 米倉大介, 村上理一 2010

[学会発表] MPCVD法により成膜した導電性ダイヤモンド薄膜の表面化学修飾の評価

村上理一 2010

[学会発表] Field emission investigation of boron doped diamond thin films synthesized by microwave plasa chemical vapor : Effect of vacuum annealing

P.M.Koinkar, D.Yonekura, T.G.Kim, M.A.More, R.Murakami 2009

[学会発表] Field emission investigation of boron doped diamond thin films synthesized by microwave plasma chemical vapor deposition : Effect of vacuum annealing

R.Murakami 2009

[学会発表] Electrochemical properties of Boron-doped diamond deposited by microwave plasma cvd method

R. Murakami 2008

[学会発表] Electrochemical Properties of Boron-doped Diamond Deposited by Microwave Plasma CVD Method

K.Oka, D.Yonekura, R. Murakami 2008

[学会発表] Chemical Modification of Diamond Films on Pure Titanium Deposited By MPCVD Method

R. Murakami 2008