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理科室で構築するナノテクプラットフォーム

KAKEN 科学研究費助成事業データベース で見る
研究課題番号 KAKENHI-PROJECT-16K00992
研究種目 基盤研究(C)
研究分野 総合系
複合領域
科学教育・教育工学
科学教育
研究機関 香川高等専門学校
代表研究者 長岡 史郎
研究分担者 堀邊 英夫
研究分担者 下川 房男
研究分担者 山本 雅史
研究分担者 清水 共
研究分担者 JOHNSTON ROBERT
研究分担者 鹿間 共一
研究協力者 鹿間 共一
研究期間 開始年月日 2016/4/1
研究期間 終了年度 2018
研究ステータス 完了 (2018/4/1)
配分額(合計) 4,030,000 (直接経費 :3,100,000、間接経費 :930,000)
配分額(履歴) 2018年度:910,000 (直接経費 :700,000、間接経費 :210,000)
2017年度:780,000 (直接経費 :600,000、間接経費 :180,000)
2016年度:2,340,000 (直接経費 :1,800,000、間接経費 :540,000)
キーワード Sol-Gel
熱拡散
p-n接合
工学教育
リソグラフィ
プロセス
デバイス
Sol-Gel
pn接合
集積回路
簡素化
教育
Sol Gel
pn接合
MOS FET
バイポーラトランジスタ
リソグラフィー
電子デバイス・機器

研究成果

[学会発表] A study for reducing pattern position alignment error of a simplified photo lithography method for the nanotech platform established at the average science laboratory

H. Kunisawa, M. Yamamoto, T. Shimizu, R. W. Johnston, F. Shimokawa, H. Horibe, M. Rusop, and S. Nagaoka 2019

[雑誌論文] Proposal for Reducing Pattern Position Alignment Error of A Simplified Photo Lithography Method for Education

S. Nagaoka, M. Yamamoto, T. Tsuji, K. Matsuda, T. Shimizu, R. W. Johnston, T. Shikama, F. Shimokawa and H. Horibe 2018

[雑誌論文] Fundamental Study of the Simplified Micro Diffusion Bipolar Transistor as the Educational Resource

S. Nagaoka, M. Yamamoto, T. Tsuji, T. Shimizu, R. W. Johnston, H. Horibe, F. Shimokawa,T. Shikama and M. Rusop 2017

[学会発表] Fundamental Study of the Fabrication Process for the Micro Alloy Silicon Transistor Using Silicon Anisotropic Etching

真鍋海,長岡史郎,塩田幸輝, 下川房男 2017