トップ研究者を探す大気圧低温プラズマを用いたZnO薄膜における成膜速度の高速化

大気圧低温プラズマを用いたZnO薄膜における成膜速度の高速化

KAKEN 科学研究費助成事業データベース で見る
研究課題番号 KAKENHI-PROJECT-16560285
研究種目 基盤研究(C)
研究分野 理工系
工学
電気電子工学
電子・電気材料工学
研究機関 高松工業高等専門学校
代表研究者 鹿間 共一
研究分担者 須崎 嘉文
研究分担者 鯉沼 秀臣
研究期間 開始年月日 2004/4/1
研究期間 終了年度 2005
研究ステータス 完了 (2005/4/1)
配分額(合計) 3,000,000 (直接経費 :3,000,000)
配分額(履歴) 2005年度:800,000 (直接経費 :800,000)
2004年度:2,200,000 (直接経費 :2,200,000)
キーワード 大気圧低温プラズマ
酸化亜鉛
結晶粒径
atmospheric pressure cold plasma
zinc oxide
grain size