口腔内装置表面へのプラズマイオン注入による歯垢付着抑制
KAKEN 科学研究費助成事業データベース で見る研究課題番号 | KAKENHI-PROJECT-14370697 |
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研究種目 | 基盤研究(B) |
研究分野 | 医学 歯学 矯正・小児・社会系歯学 |
研究機関 | 徳島大学 |
代表研究者 | 西野 瑞穂 |
研究分担者 | 有田 憲司 |
研究分担者 | 清水 謙 |
研究分担者 | 山口 公子 |
研究分担者 | 森川 富昭 |
研究期間 開始年月日 | 2002/4/1 |
研究期間 終了年度 | 2005 |
研究ステータス | 完了 (2005/4/1) |
配分額(合計) | 13,800,000 (直接経費 :13,800,000) |
配分額(履歴) |
2005年度:700,000 (直接経費 :700,000) 2004年度:700,000 (直接経費 :700,000) 2003年度:2,200,000 (直接経費 :2,200,000) 2002年度:10,200,000 (直接経費 :10,200,000) |
キーワード | 歯学 プラズマベースイオン注入 表面改質 フッ素イオン 銀イオン 純チタン 二次イオン質量分析 SEM観察 歯科材料 プラズマベースイオン注入法 歯垢付着抑制 咬合誘導装置 歯科矯正装置 義歯 Dentistry Plasma Based Ion Implantation Surface Modification Fluorine Ion Silver Ion Titanium Secondary ion mass spectrograph Scanning electron microscope |