金属内包シリコンクラスレートの触媒反応
KAKEN 科学研究費助成事業データベース で見る| 研究課題番号 | KAKENHI-PROJECT-09640709 |
|---|---|
| 研究種目 | 基盤研究(C) |
| 研究分野 | 理学 化学 物質変換 |
| 研究機関 | 広島大学 |
| 代表研究者 | 塩谷 優 |
| 研究分担者 | 八尋 秀典 |
| 研究期間 開始年月日 | 1997/4/1 |
| 研究期間 終了年度 | 1998 |
| 研究ステータス | 完了 (1998/4/1) |
| 配分額（合計） | 2,900,000 (直接経費 :2,900,000) |
| 配分額（履歴） |
1998年度：800,000 (直接経費 :800,000) 1997年度：2,100,000 (直接経費 :2,100,000) |
| キーワード | シリコンクラスレート ゼオライト 金属内包 触媒反応 ESR 電子構造 分子運動 金属内包シリコンクラスレート 構造解析 電子状態 電子スピン共鳴 silicon clathrates zeolites metal incorporated catalvtic reactions ESR electronic structure molecular motion |