スパッタ膜作製における低エネルギーイオン照射による膜特性の制御に関する研究
KAKEN 科学研究費助成事業データベース で見る| 研究課題番号 | KAKENHI-PROJECT-08650383 |
|---|---|
| 研究種目 | 基盤研究(C) |
| 研究分野 | 工学 電気電子工学 電子・電気材料工学 |
| 研究機関 | 徳島大学 |
| 代表研究者 | 富永 喜久雄 |
| 研究分担者 | 英 崇夫 |
| 研究分担者 | 中林 一郎 |
| 研究期間 開始年月日 | 1996/4/1 |
| 研究期間 終了年度 | 1997 |
| 研究ステータス | 完了 (1997/4/1) |
| 配分額（合計） | 2,400,000 (直接経費 :2,400,000) |
| 配分額（履歴） |
1997年度：600,000 (直接経費 :600,000) 1996年度：1,800,000 (直接経費 :1,800,000) |
| キーワード | スパッタリング 窒化物薄膜 酸化物薄膜 AlN ZnO ITO 透明導電膜 酸化亜鉛 窒化アルミニウム Sputtering nitride film oxide film AlN ZnO ITO transparent conductive film |